Intelは10nmでの製造プロセスを正式に発表

14 nmで製造された3世代のプロセッサーの後、 インテルは新しい10 nmプロセスを公式に発表しました。これにより、エネルギーを使用してより強力で効率的な新世代のマイクロプロセッサーが可能になります。

インテルは世界最高の10nmプロセッサーを製造する

Intelは 、同等の競合プロセスの2倍の数のトランジスタを結合できるようにする新しい10 nm製造プロセスを世界に発表できることを誇りに思っています。 Intelは、 彼らのプロセスは真の10nmプロセスであり、主要なライバルが採用しているプロセスよりも一世代進んでいると主張しています。 後者は、製造プロセスのサイズを測定する標準がないため、 10 nmがすべて同じというわけではなく 、はるかに少ないという事実によるものです 。

市場で最高のプロセッサー（2017）

プロセッサメーカーの多くは、製造プロセスでトランジスタのサイズを実際に測定する代わりにnmをマーケティングツールとして使用しています。後者は、 TSMCが12nmプロセスを以前の16nmプロセスのアップグレードバージョン 。 実際にはサイズに変更はありません 。

Intel 10nmプロセスの最小ゲートピッチは70nmから54nmに縮小され、最小金属ピッチは52nmから36nmに縮小されています。 これらのより小さな寸法により、mm2あたり100.8メガトランジスタの密度が可能になり、これはIntelの以前の14nmテクノロジーよりも2.7倍高く、他の10nmプロセスよりも約2倍高いと予想されます。

インテルの新しい10nmプロセスは、現在の14nmプロセッサーよりも25％高いパフォーマンスを提供し、 消費電力を45％削減します。 現在、インテルの14nm ++プロセスは、最初の14nmバージョンよりも26％高いエネルギー効率を提供しています。 将来的には、10nm +を使用する予定です。これにより、パフォーマンスが15％向上し、エネルギー消費量は10nmと比較して30％削減されます。

ソース：overclock3d