Intelの7nmの進歩は計画通り、予想よりも早く到着する

Intelの10nm製造ノードは、当初2016年後半に量産を開始する予定でしたが、現在、同社ではほとんど使用されていません。 現在、このプロセスは少数のCPUのみを生産するために使用されており、大量生産は2019年後半に予定されています。会社とその事業の製品。 ただし、 インテルの7nmテクノロジーは当初のスケジュールに従って導入される予定であるため 、 Intelの10nmは短命のノードになる可能性があります。

IntelはEUVで7nmを開発する問題がはるかに少ない

Intelは、10nm製造プロセスのトランジスタスケール密度の目標を非常に厳しく設定しているため、開発に問題があったと述べています 。 インテルの10 nm製造技術は、193 nmの波長で動作するレーザーを備えた遠紫外線リソグラフィー（DUVL）のみに依存しています。 Intelが10 nmで達成するために設定した微細な機能サイズを有効にするには、プロセスでマルチパターン化を多用する必要がありました。 Intelによると、このプロセスの問題の1つは、マルチパターンの集中的な使用でした。

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対照的に、インテルの7nm生産技術は、選択されたレイヤーに13.5nmのレーザー波長の極端紫外リソグラフィー（EUVL）を 利用し、特定の金属レイヤーのマルチパターニングの使用を削減します。生産時間の簡略化とサイクルの短縮。 どうやら、7 nmの製造プロセスは、10 nmテクノロジーとは別に、さまざまな装置によって開発されていました 。 その結果、同社は開発を進めており、Intelの未発表のロードマップに従って、HVMに参入すると予測しています。

Intelは、同社が2019年に10nmプロセステクノロジーを使用して顧客のCPUのHVM生産を開始する予定であることを再確認し、その後すぐにデータセンター製品が続く予定です。 とは言っても、 Intelがすでに発表されている10nm製品をスキップしていないことは明らかですが、その7nm製品が予想よりも早く市場に出回ることを意味しています。

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